韩国开建超纯水示范工厂,用于半导体芯片制造

11月17日周三，据韩媒报道，韩国环境部于昨日在SK Silitron工厂举办了超纯水示范工厂的奠基仪式。官方介绍，该工厂将验证工业用超纯水制造相关的各项技术，其中包含用于有机物去除的 UV 氧化系统，用于去除溶解氧的脱气系统，以及相关设备和施工方式。

官方表示，将利用其在水资源方面的专业性和拥有的基础设施，尽快完成“超纯水”的生产和供应技术国产化，将集中力量与政府和企业一起早日实现“K-半导体”战略。

资料显示，超纯水内部的有机物含量需要低于0.01ppm，是半导体芯片制造过程中必不可少的。目前，这家新建的超纯水工厂的目标是每天生产两千四百吨，此外远期目标是将生产和运营过程中进口设备的使用率降低至百分之零，技术和设备采购方面的进口依赖程度降低到百分之四十。

新工厂建在半导体制造商的工厂内，在技术验证期间也能供应超纯水，韩国计划在2025年之前完成所有技术验证，目的是减少对于外国技术的依赖，据了解，韩国此前一直依赖从法国和日本进口超纯水。

行业人士预计，与电子、医药、钢铁、半导体相关的全球超纯水市场，预计到2024年将达到23万亿韩元。其中半导体相关的超纯水市场规模，估计会达到4.4万亿韩元。